日本金属学会誌



日本金属学会誌 - 第56巻 第5号 1992年5月


論 文
 
487-493: アモルファス磁性体Fe77.5B15Si7.5の結晶化過程
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  國富信彦
 
494-501: シリコン結晶における析出酸化物の形態
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  青木 茂
 
502-508: Ti-Ni系形状記憶合金の中性子照射損傷の回復
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  星屋泰二 高田文樹 近江正男 後藤一郎 安藤弘栄
 
509-516: メカニカルアロイングにより作製したアモルファスAl2O3およびAl-Ti-O-N混合粉末の結晶化過程
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  佐治重興 松元和秀 柴柳敏哉
山崎 徹 荻野喜清 坂田孝夫
 
517-523: メカニカルアロイング法により作製したCu-Al-Ni形状記憶合金の組織とその特性
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  兼吉高宏 高橋輝男 林 行信 元山宗之
 
524-530: Ti-Mo合金のチタナイジングによる延性の向上
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  竹元嘉利 飛田守孝 榊原 精 西田典秀
 
531-540: 固溶硬化合金における高温変形挙動予測法の実験的検討
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  宮川英明 中島英治 吉永日出男
 
541-547: サファイア基板の還元窒化に関する組織学的検討
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  平井伸治 小澤正義 片山 博 上村揚一郎
 
548-552: 赤外透過スペクトルデータによる赤外高感度反射スペクトルの形状予測
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  山崎修一
 
553-557: 単ロール法におけるアモルファス薄帯の肉厚を支配する因子
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  佐藤有一 小澤 勉 佐藤 駿
 
558-564: 高周波反応性スパッタリング法によって作製したAlN薄膜の構造と組成
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  井上尚三 内田 仁 徳永洋一 小寺澤啓司
 
565-571: EPMAによるBN粉末とBN膜の状態分析
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  上月秀徳 元山宗之
 
572-578: BのX線放射スペクトルによるBN膜の評価
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  上月秀徳 元山宗之
 
579-585: ステンレス鋼の拡散接合に及ぼす表面組成の影響
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  大橋 修 菅誠一郎
 
586-591: 銀シースBi2223系酸化物超伝導テープ材の超伝導特性に及ぼすSn,Ba,Mg添加の影響
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  加茂百紀 呉 詳秀 長村光造
 
592-599: 3mass%Si鋼の析出相分散に及ぼすSn添加の影響
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  中島正三郎 高嶋邦秀 原勢二郎
 
600-603: スパッタリングとECRプラズマ窒化の繰り返しによるFe/Fe-N多層膜の軟磁気特性
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  小野秀昭 藤長政志 米本隆治 宮川亞夫
 
寄 書
 
604-605: メスバウアースペクトル強度比の定量解析法
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  藤村浩志 小田克郎 小嶋啓達 井野博満
 
606-607: MA粉末をHIP処理したTiNi合金焼結体の超塑性変形
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・  江崎宏樹 飴山 惠 時実正治

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